种类:镀铜添加剂 | 型号:RD-500光亮焦磷酸铜 | 类别:光亮剂 |
主要用途:光亮焦铜、光焦铜、焦铜添加剂、焦铜 |
500光亮焦磷酸铜工艺
一、产品特点
1) 具有极优异的平滑性,能产生良好的光亮镀层。
2) 镀层均一性好,可以均一地进行厚镀。
3) 电流效率***,可在高电流密度中作业,加快电镀速度。
4) 镀液管理简单,操作容易。
二、镀液组成及操作条件
组成及操作条件 | 范 围 | 标 准 |
焦磷酸铜 | 65-105克∕升 | 80克∕升 |
焦磷酸钾 | 230-370克∕升 | 350克∕升 |
RD-500光亮剂 | 1-3毫升 | 2毫升 |
RD-500开缸剂 | 2-5毫升 | 3毫升 |
P 比 | 6.4-7.0 | 6.8 |
PH 值 | 8.6-9.0 | 8.7 |
温 度 | 50-60℃ | 57℃ |
阳极电流密度 | 1-3A∕dm2 | 2A∕dm2 |
阴极电流密度 | 1-6A∕dm2 | 4A∕dm2 |
搅 拌 | 空气搅拌 |
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过 滤 | 连续循环过滤 |
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阳 极 | 无氧电解铜 |
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三、设备要求
1.镀槽(缸):PVC或内衬合适的塑料材料的柔钢缸。
2.温度控制:需装备温控装置。可用蒸气、石英电热笔加热或其他认可材料的加热笔。
3.空气搅拌:镀液需要平均而强烈的空气搅拌,所需的空气由低压无油泵供应。
4.循环过滤:镀液需要连续循环过滤。过滤泵最少能在1小时内能将镀液过滤4至6次。
四、组成原料功用
焦磷酸铜 | 焦磷酸铜是镀液的主盐,含量高可提高镀层的光亮度和电流密度上限。含量太高,会使镀层的结晶粗糙。含量太低,镀层光亮度下降,色泽偏红,电流密度范围变小,镀层易烧焦。 |
焦磷酸钾 | 焦磷酸铜是焦磷酸铜的络合剂,使其稳定络合,防止沉淀,改善镀层质量,提高镀层的分散能力和深镀能力。并可促进阳极溶解和增强镀液的导电能力。 |
五、镀液管理与维护
1.P比:
1) 把总焦磷酸根含量与铜含量之比定义为P比或P值。
2) 游离焦磷酸根多,阴极极化作用强,镀液的分散能力和深镀能力好,光亮铜镀层的电流密度范围向低电流密度区移动。
3) P比过高,电流效率下降,配槽成本及带出损失增大。P比过低,阳极溶解性差、镀层粗糙、镀液分散能力差、深镀能力差,光亮铜镀层的范围向高电流密度区移动。
4) 生产现场简易计算P比。总焦磷酸根=(焦磷酸铜×0.4865)+(焦磷酸钾×0.5265)
P比值=总磷酸根/金属铜
2.PH值:
1) PH值范围是8.6~9.0,焦铜的阳极效率比阴极效率低,使镀液中氢氧根不断减少,PH值随生产的进行呈下降趋势。
2) PH值低于8.0时,虽然阴极电流密度范围宽,但镀层结晶粗糙发毛,在零件深凹处更为严重,镀层色暗易产生毛刺。加速焦磷酸盐水解为正磷酸盐,并使镀液粘度增大。
3) PH值高于9.0时,铜络离子在通电还原时很容易生成氢氧化铜夹杂在铜镀层中,造成粗糙光泽较差,甚至出现暗色条纹层,还有光亮镀层的电流密度范围小。
4) 调高PH时用10%的氢氧化钾溶液或浓氨水;调低PH值时用10%的聚磷酸溶液。
3.温度:
1) 温度低于45℃时,虽然镀层结晶细致,但是镀层色泽发暗,甚至出现条纹镀层或烧焦,获得光亮镀层的电流密度范围狭窄,阴极效率低,电流开不太,沉积速度太慢。
2) 温度高于65℃时,焦磷酸盐水解,造成磷酸盐积累。
4.添加剂消耗量:
添加剂 | 添加剂消耗量 |
RD-500光亮剂 | 100-200毫升/千安培小时 |
RD-500开缸剂 | 0.5-1毫升/天 |
六、产品目录
RD-500光亮剂 RD-500开缸剂